위치 결정 정밀도를 반복하세요: |
일반적으로 ±0.1mm 이내 |
갠트리 여행: |
처리할 수 있는 작업물의 최대 크기를 결정합니다. |
사용: |
산업적 세정 |
적용: |
금속 부품류 세정 |
이동 속도 정확도: |
보통 ±0.1mm/s 이내 |
제어 시스템: |
PLC |
처리 효율성: |
시간당 처리되는 공작물의 면적 또는 수 |
보증: |
1년 |
위치 결정 정밀도를 반복하세요: |
일반적으로 ±0.1mm 이내 |
갠트리 여행: |
처리할 수 있는 작업물의 최대 크기를 결정합니다. |
사용: |
산업적 세정 |
적용: |
금속 부품류 세정 |
이동 속도 정확도: |
보통 ±0.1mm/s 이내 |
제어 시스템: |
PLC |
처리 효율성: |
시간당 처리되는 공작물의 면적 또는 수 |
보증: |
1년 |
이 분자 청소 처리 장치의 Gantry 여행은 처리 할 수있는 작업 조각의 최대 크기를 결정합니다.그것은 쉽고 효율적으로 큰 금속 부품을 청소 할 수 있습니다화학 처리 청소 장비는 처리 부위 또는 시간 당 처리 된 작품 수로 측정되는 높은 처리 효율을 가지고 있습니다.이것은 시간이 필수적인 산업용 용도로 이상적입니다..
재료 정화 기술 시설은 화학적 처리를 사용하여 금속 부품에서 오염 물질을 제거하도록 설계되었습니다.세척 과정 은 매우 효과적 이며, 금속 부품 이 철저 히 깨끗 하게 되는 것 을 보장 한다퀀텀 물질 처리 장비는 자동차, 항공우주, 제조업 등 산업에서 사용하기에 이상적입니다.금속 부품이 생산 과정의 필수 요소인 경우.
분자 청소 처리 장치는 조작 및 유지 보수가 용이하므로 금속 부품의 빈번한 청소가 필요한 기업에 편리한 선택입니다.그 PLC 제어 시스템 은 정밀 하고 효율적 인 청소 과정 을 보장 합니다, 시간을 절약하고 비용을 절감합니다. 건축에 사용되는 스테인리스 스틸 재료는 가혹한 산업 환경에서도 내구성과 신뢰성을 보장합니다.
요약하자면, 화학 처리 청소 장비는 금속 부품을 청소하는 데 이상적인 재료 정화 기술 시설입니다. 그것은 고품질 스테인레스 스틸 재료로 만들어집니다.PLC 제어 시스템으로 장착된, 그리고 높은 처리 효율을 가지고 있습니다. 그 Gantry 여행은 처리 할 수있는 작업 조각의 최대 크기를 결정하여 산업용 용도로 이상적입니다.양자 물질 처리 장치는 화학적 처리를 사용하여 금속 부품에서 오염 물질을 제거하도록 설계되었습니다., 그리고 분자 청소 처리 장치는 작동 및 유지 보수가 쉽습니다. 그것은 금속 부품의 빈번한 청소를 필요로하는 기업에 대한 신뢰할 수 있고 효율적인 선택입니다.
이 장비는 유기 화합물의 청소를 위해 특별히 설계되어 있으며, 이러한 물질의 제거가 필요한 산업 환경에서 귀중한 도구입니다.자동차 산업에서 사용하기에 완벽합니다., 기름과 다른 유기 화합물이 기계와 부품에 쌓일 수 있어 성능과 효율성이 감소합니다.후이어 화학 처리 청소 장비는 효과적으로 이러한 물질을 제거 할 수 있습니다, 장비의 성능과 수명을 향상시킵니다.
이 장비는 또한 유기 화합물의 정화 가 생산 과정의 필수 단계인 제조 산업에서 사용하기에 적합합니다.Huier 화학 처리 청소 장비의 높은 처리 효율은 시간당 많은 수의 작업 조각을 처리 할 수 있습니다., 제조업체에 대한 비용 효율적인 솔루션입니다.
후이어 화학 처리 청소 장비의 또 다른 특징은 처리 할 수있는 작업 조각의 최대 크기를 결정하는 gantry 이동입니다.이것은 다양한 설정 및 응용 프로그램에서 사용할 수있는 다재다능한 도구로 만듭니다..
후이어 화학처리 청소 장비는 1년 보증으로 제공되며, 이 고품질 제품에 투자하는 고객에게 안정을 제공합니다.후이어 화학 처리 청소 장비는 기계 또는 작업 부품에서 유기 화합물을 제거해야하는 모든 산업 또는 비즈니스에 귀중한 자산입니다..
1분사 압력: 보통 0.1~0.2MPa 사이.
2가공 액체 온도: 가공 과정에 따라 20-60°C 정도입니다.
3가공 시간: 가공 목적 및 작업 조각의 재료에 따라 몇 분에서 10 분까지 다양합니다.
4순환 흐름 속도: 시간 단위 당 처리 액체의 순환 부피.
5필터레이션 정확성: 순환 필터레이션 시스템의 필터레이션 정확도는 일반적으로 5 ~ 50 미크론입니다.
6작업 조각 처리 용량: 일 시간 또는 일 당 처리 할 수있는 작업 조각의 수.
1분사 압력: 보통 0.1~0.2MPa 사이.
2가공 액체 온도: 가공 과정에 따라 20-60°C 정도입니다.
3가공 시간: 가공 목적 및 작업 조각의 재료에 따라 몇 분에서 10 분까지 다양합니다.
4순환 흐름 속도: 시간 단위 당 처리 액체의 순환 부피.
5필터레이션 정확성: 순환 필터레이션 시스템의 필터레이션 정확도는 일반적으로 5 ~ 50 미크론입니다.
6작업 조각 처리 용량: 일 시간 또는 일 당 처리 할 수있는 작업 조각의 수.
Q: 후이어 화학처리 청소 장비는 무엇입니까?
A: 후이어 화학 처리 청소 장비는 표면에서 더럽고 얼룩을 제거하기 위해 화학 처리를 사용하는 청소 장비의 제품 라인입니다.
질문: 후이어 화학처리 청소 장비는 어디서 만들어집니다?
A: 후이어 화학처리 청소 장비는 중국 제재앙에서 만들어집니다.
Q: Huier 화학 처리 청소 장비는 어떤 종류의 표면에 사용할 수 있습니까?
A: 후이어 화학 처리 청소 장비는 금속, 플라스틱, 유리 및 세라믹을 포함한 다양한 표면에 사용할 수 있습니다.
Q: 나는 Huier 화학 처리 청소 장비를 사용할 때 어떤 안전 예방 조치를 취해야합니까?
A: 예, 제품과 함께 제공 된 모든 안전 지침을 준수하는 것이 중요합니다. 이것은 보호 의류, 장갑 및 안경 착용을 포함 할 수 있습니다.또한 제품을 사용하는 지역에서 적절한 환기를 보장합니다..
Q: 어떤 Huier 화학 처리 청소 장비 제품이 제 필요에 맞는지 어떻게 알 수 있나요?
A: 우리는 청소 전문가와 상담하거나 Huier 고객 서비스와 연락하여 귀하의 특정 청소 필요에 가장 적합한 제품을 선택하는 데 도움이 되도록 권장합니다.
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